Matériaux semiconducteur
- Détecteurs Silicium : pixels, pistes au SiLi épais ou localisation par dispositif résistif ou de dérive (SDD). Tolérance aux radiations, techniques du vide, refroidissement. Fabrication sous-traitée sauf dispositifs non-rentables pour les industriels (type SiLi épais). Les détecteurs SiLi d’épaisseur moyenne sont produits et sont instrumentés comme les Ge (détection de gamma ou d’électrons).
- Détecteurs Germanium : pour la spectroscopie gamma (résolution). Techniques de vide, Azote liquide. Fabrication par industriels, sauf bolomètres.
- Détecteurs CdTe : pixels gamma pour les applications spatiales (CEA).
- Détecteurs Diamant : tolérance aux radiations, rapidité de réponse, taux de comptage élevés. Fabrication par industriels ou prototypage dans labos.
- Détecteurs SiC : tolérance aux radiations (neutrons), rapidité de réponse. Applications à la détection de particules type IN2P3 en cours de développement (IM2NP).
Techniques spécifiques aux détecteurs semiconducteurs
1. Intégration de pixels : techniques de circuits intégrés (type CCD, MAPS, HVCMOS), avec parfois intégration des premiers étages d’électronique front-end. Intégration : bonding, BGA, mécanique (souvent légère
2. Intégration de pistes : nombre de voies importants (jusque quelques centaines par détecteurs) –> connectique, ASICs, intégration mécanique
3. Avalanche/comptage : APD, LGAD
4. Division de charges : détecteurs résistifs pour mesure de position (1 ou 2 D)
5. Spectroscopie : mesure de résolution d’énergie
6. Mesure de temps : mesure de l’arrivée des particules (décroissances, corrélations, trigger)
7. Simulation TCAD : simulations spécifiques aux semi-conducteurs (Synopsis et Silvaco)
Installations spécifiques, moyens mi-lourds et plateformes de recherche
1. Accélérateurs : plateformes IN2P3 pour tests/irradiation (ALTO), scan/réalisation de jonctions (SCALP)
2. Machines à bonder : productions spécifiques ou interventions rapides
3. Probe stations : tests à pointes
4. Bancs spécifiques : pompage/recuit, évaporation de couches minces, chaînes de mesures (ampli, numériseurs très haute performance, etc)
Compétences et expertises transverses
1. Gestion de projet
2. Simulations (autres que TCAD) : GEANT4, génération du signal
3. Intégration mécanique : techniques spécifiques liées au besoin de minimiser la matière, parfois dans sous vide, avec contraintes thermiques ; nature des matériaux
4. Circuits imprimés et connectique : conception/production. Lié à la densité de connexion, CEM
5. (Micro)-électronique front-end : conception. Techniques spécifiques liées aux détecteurs
6. Traitement du signal : lié au départ à l’électronique analogique, mais utilisé sur les acquisitions de taille moyenne avec les numériseurs. Pour la R&D comme pour les plateformes.
7. Acquisition de données : même la mise en œuvre de tests implique un grand nombre de voies, la mise en place de triggers évolués (en partie parce que passe par des mesures sous faisceau)
- Détecteurs Silicium : pixels, pistes au SiLi épais ou localisation par dispositif résistif ou de dérive (SDD). Tolérance aux radiations, techniques du vide, refroidissement. Fabrication sous-traitée sauf dispositifs non-rentables pour les industriels (type SiLi épais). Les détecteurs SiLi d’épaisseur moyenne sont produits et sont instrumentés comme les Ge (détection de gamma ou d’électrons).
- Détecteurs Germanium : pour la spectroscopie gamma (résolution). Techniques de vide, Azote liquide. Fabrication par industriels, sauf bolomètres.
- Détecteurs CdTe : pixels gamma pour les applications spatiales (CEA).
- Détecteurs Diamant : tolérance aux radiations, rapidité de réponse, taux de comptage élevés. Fabrication par industriels ou prototypage dans labos.
- Détecteurs SiC : tolérance aux radiations (neutrons), rapidité de réponse. Applications à la détection de particules type IN2P3 en cours de développement (IM2NP).
1. Intégration de pixels : techniques de circuits intégrés (type CCD, MAPS, HVCMOS), avec parfois intégration des premiers étages d’électronique front-end. Intégration : bonding, BGA, mécanique (souvent légère
2. Intégration de pistes : nombre de voies importants (jusque quelques centaines par détecteurs) –> connectique, ASICs, intégration mécanique
3. Avalanche/comptage : APD, LGAD
4. Division de charges : détecteurs résistifs pour mesure de position (1 ou 2 D)
5. Spectroscopie : mesure de résolution d’énergie
6. Mesure de temps : mesure de l’arrivée des particules (décroissances, corrélations, trigger)
7. Simulation TCAD : simulations spécifiques aux semi-conducteurs (Synopsis et Silvaco)
1. Accélérateurs : plateformes IN2P3 pour tests/irradiation (ALTO), scan/réalisation de jonctions (SCALP)
2. Machines à bonder : productions spécifiques ou interventions rapides
3. Probe stations : tests à pointes
4. Bancs spécifiques : pompage/recuit, évaporation de couches minces, chaînes de mesures (ampli, numériseurs très haute performance, etc)
1. Gestion de projet
2. Simulations (autres que TCAD) : GEANT4, génération du signal
3. Intégration mécanique : techniques spécifiques liées au besoin de minimiser la matière, parfois dans sous vide, avec contraintes thermiques ; nature des matériaux
4. Circuits imprimés et connectique : conception/production. Lié à la densité de connexion, CEM
5. (Micro)-électronique front-end : conception. Techniques spécifiques liées aux détecteurs
6. Traitement du signal : lié au départ à l’électronique analogique, mais utilisé sur les acquisitions de taille moyenne avec les numériseurs. Pour la R&D comme pour les plateformes.
7. Acquisition de données : même la mise en œuvre de tests implique un grand nombre de voies, la mise en place de triggers évolués (en partie parce que passe par des mesures sous faisceau)